ترسيب بالرذ
A typical ring-geometry sputter target, here gold showing the cathode made of the material to be deposited, the anode counter-electrode and an outer ring meant to prevent sputtering of the hearth that holds the target.
الطلاء (الإلباس) بالمعادن بالرذ Sputter deposition وهويجري بدءاً من مساحيق المعادن أوأسلاكها بالحملاج الأكسجيني الأستيليني وذلك بإسقاط قطيْرات المعدن المصهور على السطح المراد إلباسه. وتطبق هذه الطريقة على الكثير من المعادن والسبائك الخليطة كالزنك والقصدير والرصاص والألمنيوم والسبائك الخليطة القاسية التي أساسها النيكل أوالكوبلت أوالكروم أوالتنگستن.
Comparison of target utilisation via HiTUS process - 95%
المصادر
للاستزادة
- Magnetron sputtering theory
- The Foundations of Vacuum Coating Technology by D. Mattox
- [Sputter Deposition, William D. Westwood, AVS Education Committee Book Series,
Vol. 2 (2003) ISBN 0-7354-0105-5]
- SVC, "51st Annual Technical Conference Proceedings" (2008) SVC Publications ISSN 0737-5921 (previous proceeding available on CD)
وصلات خارجية
- SVS Vacuum Coating Technologies GmbH (Sputtering Systems & first routine industrial application of HIPIMS technology)
- Carnegie Mellon Nanofabrication Facility (14 Sputtering Systems & Over 200 Sputtering Targets)
- NNIN at Penn State
- Ion beam sputter system contaminants
